제품 라인업
플라즈마 시스템
- 전자 레인지 (2.45GHz) 플라즈마 먹튀 사이트 검색
전자 레인지 (2.45GHz) 플라즈마는 다양한 현대 미세 구조 먹튀 사이트 검색에 비해 많은 장점이 있습니다. 그 중에서, 마이크로파 혈장을 사용한 에칭 기능은 등방성 효과로 인해 습식 에칭의 기능과 유사합니다. 다시 말해, 전자 밀도가 매우 높고 이온의 운동 에너지를 억제하는 데 기여함으로써 이상적인 손상이없는 공정 결과를 얻을 수 있습니다.
- RF 고주파 (13.56MHz) 플라즈마 먹튀 사이트 검색
고주파 RF (13.56MHz) 플라즈마는 가장 널리 사용되는 플라즈마 기술입니다. 또한 다양한 산업에서도 사용되며 최근에는 의료 및 생물 관련 응용 프로그램에도 사용됩니다. 재료 표면 활성화 및 청소와 같은 프로세스에 적합합니다.
- 대기압 플라즈마 먹튀 사이트 검색
대기 혈장 먹튀 사이트 검색는 대기압 하에서 혈장을 안정적으로 생성 할 수 있습니다. 저온에서 처리 될 수 있으며 화학 용액을 사용하지 않으므로 환경 친화적이고 생산적인 방법입니다. 그것은 표면에 하이드 록실기를 장식하는 효과가있어 액체가 격퇴하기가 어렵습니다.
배치 프로세스 시스템
Tepla의 Gigabatch 시리즈의 모든 모델은 동일한 개념으로 설계되었습니다. 공정 챔버 밖에서 생성 된 마이크로파는 활성 라디오를 챔버로 효율적으로 안내합니다. 다양한 애플리케이션 별 설계를 통해 가장 최적의 프로세스를 구축 할 수 있습니다.
- Gigabatch 시리즈 프론트 엔드 모델
기능
- R & D에서 대량 생산 모델에 이르는 응용 프로그램에 맞는 다양한 모델
- 전자 레인지 (2.45GHz) 플라즈마를 사용한 damageless 프로세스
- 빠르고 저온 공정
- IR 센서를 사용한 보드 온도 제어
- endpoint
- 자동 개구부 및 닫는 도어
- 석영 보트, 세라믹 chiamber (부식성 가스 호환)
- 수소 가스 첨가 공정 (H2 생성기, 모니터 기능)과 호환됩니다.
- 자동 프로세스 압력 제어
- 자동 웨이퍼 전송기의 조합
적응 적 응용 프로그램
저항 필링, 에칭, 리프트 오프, 표면 변형 (친수성, 수질 방충제), 청소, 이식 후 경화 저항 제거, 두꺼운 필름 에폭시 희생 층 제거
- Gigabatch 310M
경제 버전 시장 진입 모델 저비용 모델,
테이블 상단, 전원 최대 600W - Gigabatch 360p/380m
중산층 버전 150mm/200mm 호환 엔드 포인트 감지,
온도 제어, 전력 최대 1000W - Gigabatch 360p/380p
고급 버전 150mm/200mm 호환 경제 버전
자동 개구부 및 닫는 도어, 프로세스 압력 제어 기능, 자동 웨이퍼 로딩
- Giga 백엔드 모델
Features
Giga 백엔드 모델을 사용하여 고급 먹튀 사이트 검색의 백엔드 프로세스 프로세스에서 다양한 응용 프로그램을 수용 할 수 있습니다. 저압 제어 챔버에서 마이크로파 (2.45GHz) 혈장을 사용한 손상이없는 공정은 제품 수율에 효과적입니다.
적응 적 응용 프로그램
반도체 IC 패드의 드라이 클리닝
- 다이 본딩의 사전 치료
- Presin Sealing 전처리
- 언더 필 자재 사전 앱
- 초음파 접합 전처리
- 등록 ashing
- 실리콘 에칭
- 各種材料の表面改質 − (親水化、疎水化処理)
- FPC 기판의 표면 수정
- COF/COG 보드 청소
- Giga 690
알루미늄 프로세스 챔버 : 450mm x 450mm x 450mm
가스 채널 : 최대 4 개의 시스템
2.45GHz 마이크로파 플라즈마
컬러 터치 스크린
무료 잡지 디자인 - Giga Plus 80
알루미늄 프로세스 챔버 : 330X 370mm
가스 채널 : 최대 4 개의 시스템
스크린 그래픽 플롯, 데이터 로깅 기능
자동 보드 전송 로더가 장착 된 모델
RF 고주파수/전자 레인지 듀얼 모델
- ION 시리즈 다목적
기능
- R & D에서 대량 생산 모델에 이르기까지 애플리케이션에 맞춰진 다양한 모델
- 13.56MHz/2.45GHz 선택 가능
- 전극 및 챔버 설계의 사양을 변경할 수 있습니다
적응 적 응용 프로그램
반도체 관련, 광학 관련, 메카트로닉스, IC/LED 어셈블리 관련, 생명 과학 및 생물 의학 시장
- ION100 WB
진공 가능 프로세스 챔버
샘플 크기, 애플리케이션 호환 전극 및 챔버 사양
변경 될 수 있습니다
챔버 재료 : 알루미늄, 석영, 세라믹, 선택 가능 - ION40
저가 모델, 테이블 탑,
프로세스 챔버 : 36.5 리터
RF 발전기 공랭식 13.56MHz 300W
PVA Tepla AG는 경험과 노하우를 사용하여 몇 년 동안 중요한 제조 공정 및 기술 개발을 지원해 왔습니다. 처음에 산업은 반도체, 하드 합금, 전기/전자 제품 및 광학 산업에 있었지만 에너지, 태양열 발전 및 환경 기술과 같은 미래의 관심 분야를 목표로했습니다. 우리는 모든 분야에서 진정한 시장 리더가되기 위해 끝없는 미래를 향해 계속 발전 할 것입니다.
PVA Tepra (플라즈마 장비) 제품에 관한 문의
리셉션 시간 : 평일 9 : 00-17 : 30 (토요일, 일요일, 휴일 및 휴일 제외)