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우리는 ION 소스 및 플라즈마 제어를 사용한 기술을 사용하여 반도체 및 나노 기술 시장에 장비를 배포 할 것입니다.

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결함 및 수율 분석 / 이온 빔 장치

Infinity FA 시스템 : ION 빔 지연 장치

이온 빔 지연 장비는 반도체 고장 분석에서 재료 층의 박리 및 제거에 대한 빠른 결과를 제공하는 비용 효율적인 솔루션입니다. 넓은 지역에서 균일 한 균일 성과 최소 손상을 제공합니다. 다수의 이온 빔 에칭 기술을 사용하여 단일 층에서 상이한 재료의 에칭 속도가 일치하여 화학 조성에 관계없이 전체 층을 제거 할 수 있습니다.

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